公开/公告号CN100565811C
专利类型发明授权
公开/公告日2009-12-02
原文格式PDF
申请/专利权人 英特尔公司;
申请/专利号CN200680031961.2
申请日2006-08-03
分类号H01L21/28(20060101);H01L21/336(20060101);H01L29/49(20060101);H01L29/51(20060101);
代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;
代理人刘锴;韦欣华
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2022-08-23 09:03:25
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-12-02
授权
授权
2008-10-22
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-08-27
公开
公开
机译: 具有在退火的高K栅介电层上形成的金属栅电极的半导体器件
机译: 具有在退火的高K栅介电层上形成的金属栅电极的半导体器件
机译: 具有在退火的高k栅极介电层上形成的金属栅电极的半导体器件