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公开/公告号CN110325915B
专利类型发明专利
公开/公告日2022.11.11
原文格式PDF
申请/专利权人 株式会社LG化学;
申请/专利号CN201880012894.2
发明设计人 林敏映;金智慧;金容美;
申请日2018.09.14
分类号G03F7/038;G03F7/039;G03F7/20;C07D221/14;
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司;
代理人赵丹;蔡胜有
地址 韩国首尔
入库时间 2022-11-28 17:56:32
机译: 化学增幅光致抗蚀剂组合物,光致抗蚀剂层合物,光致抗蚀剂组合物的制备方法,光致抗蚀剂图案的制备方法和连接端子的制备方法
机译:光致抗蚀剂的光致抗蚀剂分散在DUV,VUV,EUV和BEUV辐照上的光致抗蚀剂
机译:复杂分子刷体系结构的先进光致抗蚀剂技术:基于双嵌段刷三元共聚物的正性光致抗蚀剂材料
机译:光致抗蚀剂将光致抗蚀剂分散在碳酸亚烷基酯中的解析和解吸对ITO底物
机译:膜组成对用于化学放大光致抗蚀剂表征的叉指电极性能的影响:分析含碱淬灭剂的光致抗蚀剂材料的方法
机译:深紫外光致抗蚀剂技术中的问题:用于248和213 nm光刻的本体和表面成像抗蚀剂的表征和建模。
机译:机械磨损的水溶性剥离抗蚀剂和裸基板的无光致抗蚀剂图案化:朝向透明电极的绿色制备
机译:通过准分子激光照射引起的光致抗蚀剂薄膜中的光致抗蚀剂膜中的点线图案形成
机译:用于光致抗蚀剂或聚合物的蚀刻方法