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化学放大型正型光刻胶组合物

摘要

一种正型光刻胶组合物,其能够形成细微光刻胶图案,能够适宜地控制光刻胶图案的锥形结构的角,能够形成具有优异焦点深度幅的光刻胶图案。这种正型光刻胶组合物由化学放大型正型光刻胶组合物形成,其对于248nm波长的光通过厚度为0.3μm的光刻胶膜得到的透光率为20至75%。

著录项

  • 公开/公告号CN100549829C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-10-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东京应化工业株式会社;

    申请/专利号CN200480006521.2

  • 发明设计人 新堀博;

    申请日2004-03-11

  • 分类号

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人陈平

  • 地址 日本神奈川县

  • 入库时间 2022-08-23 09:03:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-10-14

    授权

    授权

  • 2006-06-07

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-04-12

    公开

    公开

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