公开/公告号CN100549829C
专利类型发明授权
公开/公告日2009-10-14
原文格式PDF
申请/专利权人 东京应化工业株式会社;
申请/专利号CN200480006521.2
发明设计人 新堀博;
申请日2004-03-11
分类号
代理机构中科专利商标代理有限责任公司;
代理人陈平
地址 日本神奈川县
入库时间 2022-08-23 09:03:15
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-10-14
授权
授权
2006-06-07
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-04-12
公开
公开
机译: 用于正型光刻胶生产的共聚物和化学放大型正型光刻胶成分无效
机译: 用于生产正型光致抗蚀剂的共聚物和化学放大型正型光致抗蚀剂组合物
机译: 厚的化学放大正型光刻胶组合物,厚膜光刻胶层压板,制造方法的制造方法以及厚膜抗蚀剂图案的连接端子