公开/公告号CN110687704B
专利类型发明专利
公开/公告日2022.09.27
原文格式PDF
申请/专利权人 TCL华星光电技术有限公司;
申请/专利号CN201911014291.9
发明设计人 汪正和;
申请日2019.10.23
分类号G02F1/13(2006.01);
代理机构深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570;
代理人黄灵飞
地址 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号
入库时间 2022-11-28 17:49:28
机译: 缺陷因素检测装置和缺陷因素检测方法
机译: 掩模坯料用玻璃基板的缺陷检查方法,掩模坯料用玻璃基板,掩模坯料,曝光掩模,掩模坯料用玻璃基板的制造方法,掩模坯料的制造方法以及曝光掩模的制造方法
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