浸润式光刻系统及对具有光阻层的半导体结构的照光方法

摘要

本发明提供一种浸润式光刻系统及对具有光阻层的半导体结构的照光方法。该光刻系统由一个光学表面、一个与光学表面的一部份接触且pH值小于7的浸润流体、以及一个上表面形成有光阻层的半导体结构所构成，其中该光阻层的部分表面与浸润流体接触。此外，本发明还提供一种对上表面形成有光阻层的半导体结构的照光方法，包括以下步骤：首先，在光学元件和光阻层之间注入pH值小于7的浸润流体；接着，使光线穿过浸润流体照射到光阻层上，其中该光线的波长以小于450纳米为佳。本发明提供的光刻系统和照光方法，不仅提高了分辨率，还能避免浸润流体污染光阻层或光学透镜。