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非易失性存储器阵列、非易失性存储器系统和其形成方法

摘要

非易失性存储器单元在存储器单元的沟道区域上一电介质材料存储区域中存储相应于正在被存储在夹在一控制栅(109,110,111)和半导体衬底表面(101)之间的电介质材料存储区域的数据的电荷级别。用正在被存储在电介质材料的一公用区域的多于两个的电荷中的一个提供多于两个的存储状态。在每一单元中可包括多于一个此种公用区域的多个区域。在一形式中,在一单元中提供邻接源极与漏极扩散区域(103,104,105)的两个这样的区域,也包括位于两个区域之间的选择晶体管。在另一形式中,存储单元串的NAND阵列在一个夹在字线(110)与半导体衬底(100)之间的电介质层区域中存储电荷。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-07-20

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 29/792 变更前: 变更后: 申请日:20021031

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2013-02-20

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 29/792 变更前: 变更后: 申请日:20021031

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2012-05-02

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L 29/792 变更前: 变更后: 登记生效日:20120322 申请日:20021031

    专利申请权、专利权的转移

  • 2009-09-09

    授权

    授权

  • 2005-06-29

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-04-27

    公开

    公开

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