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用于半导体芯片孔几何形状度量的系统和方法

摘要

公开了用于测量半导体芯片中的孔结构的几何属性的系统(400)和方法的实施例。接收与半导体芯片中的孔结构相对应的光学光谱信号(412)。该光学光谱信号(412)由一个或多个光学特征来表征。使用模型(408),至少部分地基于光学特征来确定孔结构的几何属性。从多个训练样本来训练模型(408),每个所述训练样本包括与相同孔结构相对应的一对光学光谱信号(412)和标记的参考信号(416)。

著录项

  • 公开/公告号CN112384749B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022.08.19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 长江存储科技有限责任公司;

    申请/专利号CN202080000563.4

  • 发明设计人 王乐;邹远祥;张珺;张伟;周毅;

    申请日2020.03.13

  • 分类号G01B11/00(2006.01);G01B11/24(2006.01);H01L21/66(2006.01);

  • 代理机构北京永新同创知识产权代理有限公司 11376;北京永新同创知识产权代理有限公司 11376;

  • 代理人杨锡劢;赵磊

  • 地址 430223 湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号

  • 入库时间 2022-09-26 23:16:11

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