一种采用增强辉光放电复合调制强流脉冲电弧制备的ta-C涂层及制备方法

摘要

本发明属于真空镀膜涂层制备领域，具体涉及一种采用增强辉光放电复合调制强流脉冲电弧制备的ta‑C涂层及制备方法。采用增强辉光放电沉积纯金属作或化合物层为基础层，并通过利用脉冲弧源在调制脉冲高偏压下形成注入层，同时形成ta‑C膜的形核点，促进ta‑C的形核结晶，可有效提升基体与涂层之间的结合力；同时在强流脉冲弧源及调制线圈的作用下的弧光放电中辅助以增强辉光放电技术提供的纯金属作为掺杂金属同时沉积在ta‑C层中，掺杂金属与碳形成碳化物相，并以纳米晶颗粒的形式镶嵌在非晶碳网络结构中，而形成的纳米复合结构中存在大量的纳米晶界，内应力可以通过晶界的扩散或滑移得到释放，可有效提高ta‑C层的结合力。