公开/公告号CN100552891C
专利类型发明授权
公开/公告日2009-10-21
原文格式PDF
申请/专利权人 应用材料股份有限公司;
申请/专利号CN200710198720.3
发明设计人 黄智林;李思义;加拉德·A·德尔加蒂诺;
申请日2007-12-10
分类号H01L21/311(20060101);H01L21/768(20060101);
代理机构11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司;
代理人徐金国
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2022-08-23 09:03:05
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2012-02-22
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/311 授权公告日:20091021 终止日期:20101210 申请日:20071210
专利权的终止
2009-10-21
授权
授权
2008-08-06
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-06-11
公开
公开
机译: 双镶嵌应用中的底部抗反射涂层的两步蚀刻
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