首页> 中国专利> 双镶嵌应用中底部抗反射涂层的两步蚀刻

双镶嵌应用中底部抗反射涂层的两步蚀刻

摘要

本发明中提供了用于从特征中去除BARC层的方法。在一个实施例中,该方法包括在蚀刻室中提供具有填充了BARC层的特征的衬底,为了蚀刻填充在特征中的BARC层的第一部分,将包含NH3气体的第一气体混合物充入到室中并且为了蚀刻布置在特征中的BARC层的残余部分,将包含O2气体的第一气体混合物充入到蚀刻室中。

著录项

  • 公开/公告号CN100552891C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-10-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料股份有限公司;

    申请/专利号CN200710198720.3

  • 申请日2007-12-10

  • 分类号H01L21/311(20060101);H01L21/768(20060101);

  • 代理机构11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐金国

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 09:03:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-02-22

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/311 授权公告日:20091021 终止日期:20101210 申请日:20071210

    专利权的终止

  • 2009-10-21

    授权

    授权

  • 2008-08-06

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-06-11

    公开

    公开

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