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利用场板达到最佳表面横向通量的横向高压器件

摘要

一种半导体表面的横向耐压区及由其构成的器件。它是一种利用阶梯式场板对半导体表面形成的金属-绝缘层-半导体(MIS)电容来吸收(或注入)电通量于半导体表面,使半导体表面向衬底发出的有效电通量密度接近于最佳分布,从而在最短的表面距离内有最高的耐压。场板可以是浮空的,或联接于浮空场限环。各场板间还可存在耦合电容。

著录项

  • 公开/公告号CN100544028C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-09-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN200610138829.3

  • 发明设计人 陈星弼;

    申请日2006-09-19

  • 分类号H01L29/78(20060101);H01L27/04(20060101);

  • 代理机构11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人颜镝

  • 地址 610054 四川省成都市建设北路二段四号

  • 入库时间 2022-08-23 09:03:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-09-23

    授权

    授权

  • 2008-09-10

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-03-26

    公开

    公开

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