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微电子结构和制造微电子结构的方法

摘要

本发明公开一种微电子结构和制造微电子结构的方法,包括在衬底上设置和形成电阻器。导体接触层接触所述电阻器。使用Blech常数确定所述导体接触层的最大长度,以避免构成所述导体接触层的导体材料的电迁移。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-06-01

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 27/02 授权公告日:20090805 终止日期:20100323 申请日:20070323

    专利权的终止

  • 2009-08-05

    授权

    授权

  • 2008-02-06

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-12-12

    公开

    公开

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