法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-12-18
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 授权公告日:20090729 终止日期:20121025 申请日:20041025
专利权的终止
2009-07-29
授权
授权
2005-11-23
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-09-28
公开
公开
机译: 光刻胶的干刻装置,干刻方法及制造方法
机译: 利用光刻和干法刻蚀制造碳纳米管多层图案的方法
机译: 使用光刻和干法蚀刻制造碳纳米管多层图案的方法