一种集成肖特基二极管的短沟道碳化硅MOSFET器件及其制造方法

摘要

本发明涉及一种集成肖特基二极管的短沟道碳化硅MOSFET器件及其制造方法，该器件包括碳化硅衬底、位于碳化硅衬底之上的碳化硅外延层、位于碳化硅外延层之上的栅介质层、位于栅介质层之上的层间介质层，在碳化硅衬底的背部沉积金属形成漏极接触，在碳化硅外延层与栅介质层之间由下往上设有P阱2区和P阱1区，在P阱1区中设有P型和N型杂质离子区，在栅介质层上设有栅极，在层间介质层上沉积金属层以形成源极。该器件的制造方法中利用P阱2制作侧墙，使N+源区自对准P阱2以形成沟道长度L，并将源区的P阱分开，使N‑外延与源端金属接触，由于N‑外延浓度较淡，其与源端金属将形成肖特基接触，从而将肖特基二极管集成到短沟道的碳化硅MOSFET中。