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用于真空处理装置的静电吸盘、具有该静电吸盘的真空处理装置、及其制造方法

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摘要

一种用于真空处理装置的静电吸盘，其包括：一个具有突起的主基板；一个形成于该主基板上的绝缘层；一个用于通过施加电能产生静电力的形成于该绝缘层上的静电层；以及一个形成于该静电层上的介电层。这些突起可以具有各种形状，并且制造方法被简化和稳定化。此外，该静电吸盘有利于适应于大型基板。

著录项

  • 公开/公告号CN100505206C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-06-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 IPS有限公司;

    申请/专利号CN200610002077.8

  • 发明设计人 车勋;严用铎;

    申请日2006-01-24

  • 分类号H01L21/683(20060101);

  • 代理机构北京中安信知识产权代理事务所;

  • 代理人张小娟;徐林

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2022-08-23 09:02:40

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-11

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/683 授权公告日:20090624 终止日期:20180124 申请日:20060124

    专利权的终止

  • 2016-08-24

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L21/683 登记生效日:20160801 变更前: 变更后: 申请日:20060124

    专利申请权、专利权的转移

  • 2016-08-24

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L21/683 变更前: 变更后: 申请日:20060124

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2016-08-24

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 21/683 变更前: 变更后: 申请日:20060124

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2016-08-24

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L 21/683 登记生效日:20160801 变更前: 变更后: 申请日:20060124

    专利申请权、专利权的转移

  • 2012-02-15

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L21/683 变更前: 变更后: 申请日:20060124

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2012-02-15

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 21/683 变更前: 变更后: 申请日:20060124

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2009-06-24

    授权

    授权

  • 2009-06-24

    授权

    授权

  • 2007-08-01

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-08-01

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-06-06

    公开

    公开

  • 2007-06-06

    公开

    公开

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