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用于控制大量生产的辐射体的比吸收率的设备

摘要

本发明涉及一种设备,用于控制大量生产的辐射体的比吸收率。本发明设备的特征在于:它包括至少一个传感器以及至少一个处理单元,其中传感器用于测定由位于区域中的物体所辐射的能量,处理单元用于分析这样测定的能量。上述传感器由一个波导组成,其包括一个设置在测试区对面的开口以及至少一个设置在波导内部的测量探针。

著录项

  • 公开/公告号CN100504407C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-06-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 成像微波技术应用公司;

    申请/专利号CN200480023901.7

  • 发明设计人 P·加罗;L·迪歇纳;J-C·博洛梅;

    申请日2004-08-18

  • 分类号G01R29/08(20060101);

  • 代理机构11314 北京戈程知识产权代理有限公司;

  • 代理人程伟

  • 地址 法国勒雨里斯

  • 入库时间 2022-08-23 09:02:40

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-06-24

    授权

    授权

  • 2006-11-15

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-09-27

    公开

    公开

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