首页> 中国专利> 二氮杂二烯基化合物、薄膜形成用原料、薄膜的制造方法和二氮杂二烯化合物

二氮杂二烯基化合物、薄膜形成用原料、薄膜的制造方法和二氮杂二烯化合物

摘要

由下述通式(I)表示的二氮杂二烯基化合物。(式中,R1和R2各自独立地表示碳数1~6的直链或支化状的烷基,R3表示氢原子或碳数1~6的直链或支化状的烷基,M表示金属原子或硅原子,n表示由M表示的金属原子或硅原子的价数。)

著录项

  • 公开/公告号CN107428677B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-04-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社ADEKA;

    申请/专利号CN201680013777.9

  • 申请日2016-02-12

  • 分类号C07C251/08(20060101);C23C16/18(20060101);C07F15/06(20060101);

  • 代理机构11038 中国贸促会专利商标事务所有限公司;

  • 代理人何杨

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2022-08-23 13:24:37

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