法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-10-16
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 1/14 授权公告日:20090708 终止日期:20120821 申请日:20060821
专利权的终止
2009-07-08
授权
授权
2007-04-04
实质审查的生效
实质审查的生效
2007-02-07
公开
公开
机译: 由一个或多个处理器执行的一个或多个指令中的一个或多个指令中的一个,所述处理器执行用于形成光刻掩模版图的方法,用于形成光刻掩模版图的装置以及用于形成光刻掩模版图的方法。包含一个或多个序列的计算机可读介质。
机译: 由其形成的用于光掩模的薄膜组合物,用于光掩模的薄膜组件的制备方法,包括该薄膜组件的掩模版以及包括该掩模版的光刻用曝光装置
机译: 用于制造带电粒子束微光刻掩模版的掩模版坯料的制造方法以及使用这种方法形成的掩模版坯料和掩模版