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动态随机存取存储器之版图结构及光掩模的制作方法

摘要

本发明公开了一种动态随机存取存储器的版图结构,包括多个字线图案、多个有源区图案以及多个接触图案。字线图案沿第一方向延伸并沿第二方向平行排列。有源区图案与两字线图案相交而被划分成一个中间部及两个端部。中间部的形状为平行四边形,包括一对钝角以及一对锐角。接触图案重叠有源区图案的中间部,并且包括平行于第一方向的一对第一边缘以及位于第一边缘之间的一对第二边缘,其中第二边缘包括阶梯形状。本发明之一目的在于提升有源区的切割工艺及/或位线接触插塞工艺的余裕度,以提升有源区的切割准确度及/或减少位线(bit line)与相邻的储存节点接触插塞(storage node contact)之间发生短路的缺陷,提升产品良率。

著录项

  • 公开/公告号CN111653563B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-03-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 福建省晋华集成电路有限公司;

    申请/专利号CN202010470770.8

  • 申请日2020-05-28

  • 分类号H01L27/02(20060101);H01L27/108(20060101);H01L21/8242(20060101);G03F1/70(20120101);

  • 代理机构31295 上海思捷知识产权代理有限公司;

  • 代理人王宏婧

  • 地址 362200 福建省泉州市晋江市集成电路科学园联华大道88号

  • 入库时间 2022-08-23 13:12:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-04

    授权

    发明专利权授予

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