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用于自对准互连件、插塞和过孔的织物式图案化

摘要

本发明的实施例包括形成织物式图案化硬掩模的方法。在实施例中,以交替的图案在互连层的顶表面上方形成第一硬掩模和第二硬掩模。然后可以在第一硬掩模和第二硬掩模上方形成牺牲交叉光栅。在实施例中,去除第一硬掩模未被牺牲交叉光栅覆盖的部分,以形成第一开口,并将第三硬掩模沉积至第一开口中。实施例然后可以包括蚀刻通过第二硬掩模未被牺牲交叉光栅覆盖的部分以形成第二开口。可以利用第四硬掩模填充第二开口。根据实施例第一硬掩模、第二硬掩模、第三硬掩模和第四硬掩模相对于彼此具有蚀刻选择性。在实施例中,然后可以去除牺牲交叉光栅。

著录项

  • 公开/公告号CN108012562B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-03-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 英特尔公司;

    申请/专利号CN201580080374.1

  • 申请日2015-06-26

  • 分类号H01L21/033(20060101);H01L21/3213(20060101);H01L21/768(20060101);

  • 代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人陈松涛;韩宏

  • 地址 美国加利福尼亚

  • 入库时间 2022-08-23 13:11:43

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