一种通过缩醛/缩酮保护再还原合成玻色因的方法

摘要

本发明提供了一种通过缩醛/缩酮保护再还原合成玻色因的方法，与现有技术相比，本发明利用第一中间产物中4为羟基位阻相对较小的特点，选择性将3，4‑二羟基保护合成缩醛或缩酮，其为脂溶性可通过萃取分离除去水溶性的杂质，并且缩醛或缩酮化学性质相对稳定易还原，同时在还原过程中可利用2‑OH的导向作用实现还原反应的高立体选择性，将7位酮羰基还原为S构型的羟基，避免使用柱层析提纯，最后经脱保护后可得到活性较好的7位S构型的玻色因。