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一种结构光测量系统的二值图案离焦投影方法

摘要

本发明公开了一种结构光测量系统的二值图案离焦投影方法,解决了生成二值离焦投影图案因条纹周期宽度长短而出现误差较大问题,提出一种新的因应用场合不同而不断调整投影条纹周期宽度,减少不断迭代跳变次数,适用于快速测量的应用场合,并且在离焦投影状况下投影正反格雷码条纹,解决了因格雷码条纹边缘模糊导致相位求解误差较大的问题,并且利用正反格雷码法确定的相交点位置对于离焦程度不相关,都在同一像素点上,保证了该方法的稳定性与高精度。

著录项

  • 公开/公告号CN109242897B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 广东工业大学;

    申请/专利号CN201811063204.4

  • 申请日2018-09-12

  • 分类号G06T7/521(20170101);G01B11/25(20060101);

  • 代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人张春水;唐京桥

  • 地址 510006 广东省广州市番禺区大学城外环西路100号

  • 入库时间 2022-08-23 13:07:18

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