公开/公告号CN100487575C
专利类型发明授权
公开/公告日2009-05-13
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
申请/专利号CN200410008081.6
申请日2004-03-10
分类号
代理机构中科专利商标代理有限责任公司;
代理人王波波
地址 荷兰维尔德霍芬
入库时间 2022-08-23 09:02:19
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-05-13
授权
授权
2006-04-19
实质审查的生效
实质审查的生效
2004-09-22
公开
公开
机译: 光刻设备的校准方法,掩模,用于光刻设备校准的光刻设备,器件制造方法,由此制造的器件
机译: 光刻设备的校准方法,用于光刻设备的校准的掩模,光刻设备,器件制造方法,由此制造的器件
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