公开/公告号CN109037323B
专利类型发明专利
公开/公告日2022-01-11
原文格式PDF
申请/专利权人 意法半导体股份有限公司;
申请/专利号CN201810585995.0
申请日2018-06-08
分类号H01L29/778(20060101);H01L21/335(20060101);H01L29/20(20060101);
代理机构11256 北京市金杜律师事务所;
代理人王茂华
地址 意大利阿格拉布里安扎
入库时间 2022-08-23 13:00:31
机译: 具有选择性生成2DEG沟道的常关型hemt晶体管及其制造方法
机译: 具有选择性生成2DEG通道的常关型HEMT晶体管及其制造方法
机译: 具有选择性生成2DEG通道的常关型HEMT晶体管及其制造方法