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公开/公告号CN112082492B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-12-21
原文格式PDF
申请/专利权人 哈尔滨工程大学;
申请/专利号CN202010919118.X
发明设计人 杨军;卢旭;朱云龙;党凡阳;祝海波;张建中;苑勇贵;苑立波;
申请日2020-09-04
分类号G01B11/06(20060101);G01N21/45(20060101);
代理机构
代理人
地址 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区南通大街145号哈尔滨工程大学科技处知识产权办公室
入库时间 2022-08-23 12:58:44
机译: 利用偏光后的角度分辨光谱干涉图像测量多层薄膜的厚度和折射率的装置及其方法
机译: 角度分辨光谱法测量多层薄膜厚度和折射率的装置及方法
机译: 使用角度分辨光谱反射测量多层薄膜厚度和折射率的装置和方法
机译:采用液面自组织的方法在洁净的玻璃片表面铺设单层六方密排的聚苯乙烯胶体球阵列,通过改变等离子 刻蚀的时间实现对胶体小球的直径控制,结合离子溅射Au膜和磁控溅射MoO2膜,最终构筑成为一种新颖的MoO2/Au微纳阵列结构,利用扫描电镜对所合成材料进行形貌表征;同时重点利用接触角测量仪对 微纳阵列薄膜的浸润性进行研究,分析水在微纳阵列表面所形成的接触角的角度变化,结果显示沉积 MoO2/Au微纳阵列比相应的Au微纳阵列更加亲水,有利于材料在水溶液中进行电化学反应。
机译:钢水浇铸包整块炉衬几何形状及厚度的测量装置及镶衬方法
机译:膜厚度分布测量装置采用光谱干涉测量:一种实现超薄薄膜高速测量的二维膜厚度测量装置
机译:以薄膜为内靶的冷却环核实验方法研究