法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-07-28
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 29/423 授权公告日:20090408 终止日期:20160605 申请日:20040605
专利权的终止
2010-09-01
专利权的转移 IPC(主分类):H01L 29/423 变更前: 变更后: 登记生效日:20100722 申请日:20040605
专利申请权、专利权的转移
2010-09-01
专利权的转移 IPC(主分类):H01L 29/423 变更前: 变更后: 登记生效日:20100722 申请日:20040605
专利申请权、专利权的转移
2009-04-08
授权
授权
2009-04-08
授权
授权
2006-09-13
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-09-13
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-07-19
公开
公开
2006-07-19
公开
公开
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机译: 双硅层用于化学机械抛光平面化
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