公开/公告号CN100474617C
专利类型发明授权
公开/公告日2009-04-01
原文格式PDF
申请/专利权人 韩国电子通信研究院;
申请/专利号CN200380110309.6
申请日2003-12-30
分类号H01L29/772(20060101);
代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;
代理人陶凤波;侯宇
地址 韩国大田市
入库时间 2022-08-23 09:02:11
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-02-26
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 29/772 授权公告日:20090401 终止日期:20121230 申请日:20031230
专利权的终止
2009-04-01
授权
授权
2006-07-05
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-05-10
公开
公开
机译: 使用绝缘体-半导体过渡材料层作为沟道材料的场效应晶体管及其制造方法
机译: 绝缘体-半导体相变材料层作为沟道物质的大电流放大场效应晶体管及其制造方法
机译: 使用绝缘体-半导体过渡材料层作为沟道的场效应晶体管