首页> 中国专利> 采用绝缘体-半导体转换材料层作为沟道材料的场效应晶体管及其制造方法

采用绝缘体-半导体转换材料层作为沟道材料的场效应晶体管及其制造方法

摘要

本发明涉及一种包括绝缘体-半导体转换材料层的场效应晶体管。绝缘体-半导体转换材料层可以选择性地提供第一状态和第二状态,第一状态:当不施与栅场时,带电空穴就不注入到绝缘体-半导体转换材料层的表面;第二状态:当施与负性栅场时,大量的带电空穴被注入到绝缘体-半导体转换材料层的表面形成导电沟道。栅绝缘层形成于绝缘体-半导体转换材料层上。栅极形成于栅绝缘层上,给绝缘体-半导体转换材料层施与预定强度的负性栅场。源极和漏极在绝缘体-半导体转换材料层的两侧彼此相对布置,以便当绝缘体-半导体转换材料层处于第二状态时,电荷载流子能通过导电沟道流动。

著录项

  • 公开/公告号CN100474617C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-04-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 韩国电子通信研究院;

    申请/专利号CN200380110309.6

  • 发明设计人 金铉卓;姜光镛;尹斗协;蔡秉圭;

    申请日2003-12-30

  • 分类号H01L29/772(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人陶凤波;侯宇

  • 地址 韩国大田市

  • 入库时间 2022-08-23 09:02:11

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-02-26

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 29/772 授权公告日:20090401 终止日期:20121230 申请日:20031230

    专利权的终止

  • 2009-04-01

    授权

    授权

  • 2006-07-05

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-05-10

    公开

    公开

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