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公开/公告号CN107117803B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-11-02
原文格式PDF
申请/专利权人 塔工程有限公司;
申请/专利号CN201611253501.6
发明设计人 崔孝彰;崔光植;金长桀;文相旭;崔汉铉;
申请日2016-12-30
分类号C03B33/02(20060101);C03B33/10(20060101);
代理机构72003 隆天知识产权代理有限公司;
代理人黄艳;李英艳
地址 韩国庆尚北道
入库时间 2022-08-23 12:44:42
机译: 惰性气体吹扫方法和设备,曝光设备,划片机,划片检查装置,划片箱和设备制造方法
机译: 使用划片装置的划片方法以及使用该划片轮及其划片轮的非金属物质的划片轮
机译:完整的驱动过程激光划片技术:隐形划片
机译:JOAT的TLS划片系统各种半导体材料的高性能划片支持MEMS等微器件加工
机译:Keteca USA Wafer划片表面活性剂和划片锯片
机译:WLCSP的新型划片技术,该技术使用通过划片带和背面保护膜的隐形划片
机译:划片实验期间周围区域对铁-镍-铬电极的影响。
机译:划片合作伙伴
机译:用于估算巴西零散湿地价值的生态经济学方法(南马托格罗索州)估算或估算洪水计划片段的生态经济方法而非巴西(马托格罗索州)
机译:薄膜光伏组件激光划片的优化。最后技术进步报告,1995年4月12日至1997年10月11日