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一种纳米CMOS电路常开缺陷的快速容错方法

摘要

本发明公开的纳米CMOS电路常开缺陷的快速容错方法,利用纳米CMOS单元的连通域修改,将存在可用常开缺陷的单元从起各自连通域中标记移除,在与其他单元的连接中继续使用而不是舍弃该缺陷单元的方法,适当利用缺陷单元,提高单元利用率并减小映射面积。同时将纳米CMOS电路划分成若干较小规模阵列进行局部容错,简化容错的难度。再综合局部优化结果,采用禁忌搜索算法结合逃避准则对所提出的方法进行验证,以提高消除常连开缺陷的速度和容错映射的质量,加快纳米CMOS电路结构的实用化进程。本发明在提高单元利用率和映射成功率情况下,可快速消除常开缺陷对纳米CMOS电路逻辑功能的影响,从而有效解决纳米CMOS电路缺陷容错映射问题。

著录项

  • 公开/公告号CN108964652B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 宁波大学;

    申请/专利号CN201810604739.1

  • 发明设计人 夏银水;查晓婧;储著飞;

    申请日2018-06-13

  • 分类号H03K19/20(20060101);H03K19/0948(20060101);G11C29/12(20060101);

  • 代理机构33226 宁波奥圣专利代理有限公司;

  • 代理人谢潇

  • 地址 315211 浙江省宁波市江北区风华路818号

  • 入库时间 2022-08-23 12:42:26

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