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两级射流分散溶解装置及其分散溶解方法

摘要

本发明涉及的是两级射流分散溶解装置及其分散溶解方法,其中两级射流分散溶解装置包括水粉混配射流器、液液混合射流器、缓冲罐,缓冲罐的上部为缓冲腔,下部为混配漏斗,水粉混配射流器设置在缓冲罐上端入口处,水粉混配射流器出口与缓冲腔相通,混配漏斗下端出口连接液液混合射流器。本发明首先通过射流的原理将干粉与水混配成精确浓度的、均匀的、无鱼眼、无粘团的高品质母液,并再次通过水射流方式,将混配好的母液输送到熟化罐,省却了传统分散装置溶解罐,螺杆泵以及与其配套的管路,阀门控制,电器等设施,成本低,分散效果好。

著录项

  • 公开/公告号CN111068537B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 大庆伟达石油科技有限公司;

    申请/专利号CN202010050211.1

  • 发明设计人 唐立伟;

    申请日2020-01-17

  • 分类号B01F5/02(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 163319 黑龙江省大庆市高新区新科路12号科技创业园(园区)A座406房间

  • 入库时间 2022-08-23 12:38:49

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