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砷化镓/砷化铝分布布拉格反射镜的湿法腐蚀方法

摘要

一种砷化镓/砷化铝分布布拉格反射镜的湿法腐蚀方法,其特征在于,包括如下步骤:(A)在衬底上,使用分子束外延的方法外延生长砷化镓缓冲层;(B)在砷化镓缓冲层上生长多个周期分布布拉格反射镜;(C)对分布布拉格反射镜进行光刻,形成光刻胶图形,该光刻胶图形中光具有光刻胶保护的条宽;(D)用腐蚀溶液腐蚀掉部分周期的分布布拉格反射镜;(E)然后交替使用腐蚀溶液和选择性腐蚀液分别腐蚀分布布拉格反射镜,以便能够精确达到所要求的腐蚀深度。

著录项

  • 公开/公告号CN100466404C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-03-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN200610011792.8

  • 发明设计人 李若园;徐波;王占国;

    申请日2006-04-26

  • 分类号H01S5/183(20060101);H01S5/187(20060101);C23F1/16(20060101);H01L21/3063(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人汤保平

  • 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号

  • 入库时间 2022-08-23 09:02:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-06-19

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01S 5/183 授权公告日:20090304 终止日期:20120426 申请日:20060426

    专利权的终止

  • 2009-03-04

    授权

    授权

  • 2007-12-26

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-10-31

    公开

    公开

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