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激光设备、激光处理装备以及激光设备的污染防止方法

摘要

本发明提供一种激光设备、激光处理装备以及激光设备的污染防止方法,激光设备包含具有内部空间的壳体、用于通过激光辐照所述壳体的内部的激光单元、安装在所述壳体中以便将吹扫气体供应到所述壳体中的气体供应单元、以及具备安装在所述壳体中以便测量所述壳体内部多个位置处的氧浓度的主要氧浓度测量装置的测量单元。本发明可通过精确调节激光设备内部的吹扫气体的量来防止所述激光设备内部的透镜或反射镜的污染。

著录项

  • 公开/公告号CN107649781B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 AP系统股份有限公司;

    申请/专利号CN201710614877.3

  • 发明设计人 李基雄;金圣进;车恩熙;金炳秀;

    申请日2017-07-25

  • 分类号B23K26/14(20140101);C23C16/44(20060101);H01L21/268(20060101);H01L21/324(20060101);

  • 代理机构11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司;

  • 代理人杨文娟;臧建明

  • 地址 韩国京畿道华城市东滩面东滩产团8便道15-5

  • 入库时间 2022-08-23 12:33:44

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