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近红外二区/一区双模态荧光断层成像系统

摘要

本发明属于荧光成像领域,具体涉及了一种近红外二区/一区双模态荧光断层成像系统,旨在解决成像质量差、定位精度低的问题。近红外二区/一区双模态荧光断层成像系统一实施例包括:照明模块、激发模块、近红外二区采集模块、近红外一区采集模块、CT成像模块和中央控制模块,中央控制模块,配置为基于白光图像、近红外二区荧光图像、近红外一区荧光图像和荧光图像重建近红外二区三维断层图像和近红外一区三维断层图像。本发明有益效果为:重建出的三维空间的肿瘤信号具备深度特征,更加接近真实肿瘤分布,重建位置更加准确;辅助以图像显示单元,能直观、清晰、任意角度地显示肿瘤的三维形态。

著录项

  • 公开/公告号CN110327020B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院自动化研究所;

    申请/专利号CN201910599396.9

  • 发明设计人 田捷;胡振华;蔡美山;曹财广;

    申请日2019-07-04

  • 分类号A61B5/00(20060101);

  • 代理机构11576 北京市恒有知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人郭文浩;尹文会

  • 地址 100190 北京市海淀区中关村东路95号

  • 入库时间 2022-08-23 12:33:13

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