布拉格光栅及其制备方法、分布反馈激光器

摘要

本发明提供一种布拉格光栅及其制备方法、分布反馈激光器，属于半导体激光器技术领域。布拉格光栅，设置于分布反馈激光器中，包括：依次形成的的折射率具有差异的下光栅波导层、中光栅波导层以及上光栅波导层，中光栅波导层的折射率低于下光栅波导层的折射率和上光栅波导层的折射率，下光栅波导层与中光栅波导层的掺杂类型相同，上光栅波导层的掺杂类型与相邻层级的掺杂类型相反，用于在上光栅波导层形成反偏PN结，上光栅波导层沿分布反馈激光器的腔长方向间隔形成有多个凹槽，凹槽内填充有掩埋层，以平坦上光栅波导层。该布拉格光栅的耦合系数能够随分布反馈激光器的电流增加而升高，从而减少分布反馈激光器的腔损耗，进而拓展响应带宽。