一种具有高氮化硅选择性的化学机械抛光液

摘要

本发明旨在提供一种具有高氮化硅选择性的化学机械抛光液，其含有研磨颗粒及含一个或多个羧基基团的化合物。本发明具有较高的SiN抛光速度和较低的Teos抛光速度，具有较高的SiN/Teos的抛光速率选择比；使用本发明可大大减少基板表面上的氧化物线路中的缺陷，本发明具有优异的市场应用前景。