首页> 中国专利> 以非极性晶面SiC为衬底的单层石墨烯及可控生长方法

以非极性晶面SiC为衬底的单层石墨烯及可控生长方法

摘要

一种以非极性晶面SiC为衬底的单层石墨烯及可控生长方法,所述可控生长方法是在非极性晶面SiC衬底的任意角度的非极性晶面上外延生长单层石墨烯,由此利用所述非极性晶面对石墨烯的电输运性质进行调控;通过所述可控生长方法能够在所述非极性晶面SiC衬底的其中一非极性晶面上得到弹道输运性质的单层石墨烯。

著录项

  • 公开/公告号CN109950131B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津大学;

    申请/专利号CN201910154894.2

  • 申请日2019-02-28

  • 分类号H01L21/02(20060101);C23C16/02(20060101);C23C16/26(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人吴梦圆

  • 地址 300072 天津市南开区卫津路92号

  • 入库时间 2022-08-23 12:28:40

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