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公开/公告号CN109950131B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-09-14
原文格式PDF
申请/专利权人 天津大学;
申请/专利号CN201910154894.2
发明设计人 马雷;沃尔特·亚历山大·德斯海尔;纪佩璇;张凯敏;赵健;赵梅;
申请日2019-02-28
分类号H01L21/02(20060101);C23C16/02(20060101);C23C16/26(20060101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人吴梦圆
地址 300072 天津市南开区卫津路92号
入库时间 2022-08-23 12:28:40
机译: 以非极性结晶平面为基质的单层石墨烯及其可控生长方法
机译: 表面改性单晶SiC衬底,具有外延生长层的单晶SiC衬底,半导体芯片,用于物种衬底的单晶SiC生长和单晶生长层多晶SiC衬底的制造方法
机译: 用石墨烯在SiC衬底上沉积石墨烯的方法以及用石墨烯沉积SiC衬底的方法
机译:Pd(111)衬底上单层石墨烯的可控生长
机译:电子束辅助快速加热在4H-SiC衬底上单层石墨烯的选择性控制生长
机译:单层石墨烯在8°离轴4H-SiC(000-1)衬底上的生长及其在量子传输装置中的应用
机译:分子束外延在4H-SiC(11-20)衬底上生长高质量非极性AlN
机译:在SiO 2衬底上通过剥落的石墨烯种子进行CVD生长石墨烯。
机译:乙烯化学气相沉积法生长压力对4H-SiC衬底上生长的外延石墨烯的影响
机译:单层石墨烯在8度偏轴4H-SiC(000-1)衬底上的生长及其在量子传输装置中的应用
机译:siC衬底上生长的外延3C-siC,4H-siC和6H-siC薄膜缺陷的研究