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一种基于介质超表面的垂直入射型硅基锗光电探测器

摘要

本发明公开了一种基于介质超表面的垂直入射型硅基锗光电探测器,属于半导体探测器领域。包括:衬底,其材料为SOI;位于衬底上的有源层,其材料为锗和硅,上表面有介质超表面微结构,所述介质超表面微结构为亚波长周期性结构。本发明在硅基锗探测器有源层上加工介质超表面微纳结构,利用介质超表面引入的米氏谐振,将入射光限制在硅基锗探测器的有源吸收区,增强探测器对入射光的吸收效率,在不牺牲硅基锗光电探测器的高速性能下,提升了探测器的响应度。通过对介质超表面微纳的结构进行优化设计,调控各个谐振单元本身及及谐振单元之间的排布,能够有效地控制谐振增强吸收峰的光波长位置,从而在特定波长或特定波段提升光电探测器的响应度。

著录项

  • 公开/公告号CN110911507B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华中科技大学;

    申请/专利号CN201911139545.X

  • 发明设计人 夏金松;宋金汶;袁帅;

    申请日2019-11-19

  • 分类号H01L31/0232(20140101);H01L31/0236(20060101);H01L31/105(20060101);B82Y40/00(20110101);

  • 代理机构42201 华中科技大学专利中心;

  • 代理人李智

  • 地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

  • 入库时间 2022-08-23 12:20:20

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