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一种面向增材制造的磁-结构多物理场拓扑优化设计方法

摘要

本申请公开了一种面向增材制造的磁‑结构多物理场拓扑优化设计方法,包括:步骤10,结合待打印物体的单元打印密度,基于结构场和磁场材料插值模型和有限元分析方法,分析获得结构位移矢量和磁场矢量,据此建立目标函数,并结合体积约束条件,建立磁‑结构多物理场拓扑优化模型;步骤20,根据磁‑结构多物理拓扑优化模型,结合目标函数和约束对单元设计密度灵敏度,通过MMA算法对单元设计密度空间进行迭代更新,当判定磁‑结构多物理场拓扑优化模型中目标函数的相对误差小于预设阈值时,根据更新后的单元设计密度空间对待打印物体进行打印。通过本申请中的技术方案,在兼顾磁场和结构场性能的同时,实现了结构的自支撑打印,避免了支撑材料的使用。

著录项

  • 公开/公告号CN112685945B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京理工大学;

    申请/专利号CN202110031589.1

  • 发明设计人 白影春;王子祥;

    申请日2021-01-11

  • 分类号G06F30/23(20200101);

  • 代理机构11457 北京律谱知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人黄云铎;孙红颖

  • 地址 100081 北京市海淀区中关村南大街5号

  • 入库时间 2022-08-23 12:17:48

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