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I-型锗基笼形物单晶的制备方法及填充钡和锶的新单晶

摘要

本发明涉及I-型锗基笼形物单晶热电材料及其制备方法技术领域。本发明所述的I-型锗基笼形物单晶的制备方法,该方法是采用助熔剂法,首先称量锗、镓和碱金属(或碱土金属)放置于大刚玉坩埚中,然后用小刚玉坩埚倒置在大刚玉坩埚上,将大小刚玉坩埚之间形成的凹槽加以密封,最后将两个刚玉坩埚一起置于惰性气体保护下制备单晶。我们在用Ga作助熔剂制备单晶时省去了常用的不锈钢容器,因此更加简单易行,成本也更低。用此方法还合成了填充钡的I-型锗基笼形物为核填充锶的I-型锗基笼形物为壳的复合新单晶,这种新单晶内含复杂的界面:内核/过渡层/外层,这种界面对声子的传输会发生散射从而可降低热导率,因此具有比Sr

著录项

  • 公开/公告号CN100445431C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2008-12-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 同济大学;

    申请/专利号CN200610024640.1

  • 申请日2006-03-13

  • 分类号

  • 代理机构上海光华专利事务所;

  • 代理人余明伟

  • 地址 200092 上海市杨浦区四平路1239号

  • 入库时间 2022-08-23 09:01:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-05-23

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C30B 9/10 授权公告日:20081224 终止日期:20110313 申请日:20060313

    专利权的终止

  • 2008-12-24

    授权

    授权

  • 2007-11-14

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-09-19

    公开

    公开

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