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公开/公告号CN107123591B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-08-03
原文格式PDF
申请/专利权人 潍坊星泰克微电子材料有限公司;
申请/专利号CN201710321968.8
发明设计人 孙逊运;孟祥龙;刘运;王安栋;于凯;
申请日2017-05-09
分类号H01L21/027(20060101);G03F7/26(20060101);
代理机构11463 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙);
代理人王焕
地址 261205 山东省潍坊市高新区高新二路36号
入库时间 2022-08-23 12:15:21
机译: 冲压表格,压印光刻工艺以及芯片制造程序
机译: 用于半导体芯片制造的光刻工艺,包括通过修整掩模暴露光致抗蚀剂层,以帮助暴露由相移掩模的相移器定义的特征之间的空间
机译: 一种操作链路门和网络组件的方法,该方法将水平地址转换为网络服务器3GPP,并通过现有3GPP协议获得全局Internet协议地址和全局端口。
机译:“双重曝光方法”:一种新颖的光刻工艺,用于制造柔性有机场效应晶体管和电路
机译:一种用于制造蛋白质和细胞图案的聚乙二醇微结构的简单软光刻工艺。
机译:一种超快速和大规模的纸张微流体芯片制造方法
机译:蛋白质溶液中的相分离可作为蛋白质芯片制造的工具。
机译:GPP:一种基于ILP的方法用于从单细胞数据中具有突变损失的推断性癌症进展
机译:一种快速简便的低成本微流体芯片制造方法
机译:高级微机电系统和集成微系统的倒装芯片制造。