一种通过光刻工艺实现细线宽的厚膜布线技术

摘要

采用传统厚膜布线工艺通常可实现150μm的线宽,而达到50μm以下的线宽是非常困难的。文章介绍了一种利用光刻技术结合厚膜工艺实现10～50μm线宽的技术,并给出了该项技术在实际产品中的应用实例。