首页> 中国专利> 一种锗基底零件表面的红外截止滤光膜膜系及其镀制方法

一种锗基底零件表面的红外截止滤光膜膜系及其镀制方法

摘要

本发明属光学薄膜制造技术,用于红外锗基底零件截止滤光膜层的镀制。在光学薄膜范畴,对某一波段范围要求高反射率,相近的另一波段范围高透射率特性的膜系称之为截止滤光膜。未查阅到镀制本发明红外截止滤光膜的报道或资料。本发明的特点是膜层对3.5μm~4.8μm波段范围有高的反射率,对7.5μm~11μm波段范围有高的透射率,镀制此类膜层的光学零件可用于红外双光路光学系统的仪器,具有将两波段光分开的作用,对提高红外光学仪器性能、减小仪器的重量及体积具有重要意义。

著录项

  • 公开/公告号CN100460895C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-02-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN200710123582.2

  • 发明设计人 刘凤玉;

    申请日2007-07-04

  • 分类号G02B1/10(20060101);C23C14/06(20060101);C23C14/24(20060101);

  • 代理机构11008 中国航空专利中心;

  • 代理人李建英

  • 地址 471009 河南省洛阳市凯旋西路25号

  • 入库时间 2022-08-23 09:01:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-06-28

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 1/10 授权公告日:20090211 终止日期:20180704 申请日:20070704

    专利权的终止

  • 2009-02-11

    授权

    授权

  • 2009-02-11

    授权

    授权

  • 2008-01-02

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-01-02

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-11-07

    公开

    公开

  • 2007-11-07

    公开

    公开

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