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溶液法金属诱导晶化大晶粒多晶硅薄膜材料及制备和应用

摘要

本发明涉及一种溶液法金属诱导晶化大晶粒多晶硅薄膜材料及制备和应用。以非晶硅为初始材料,通过浸沾含有金属离子的溶液诱导产生大晶粒多晶硅。将盐或碱溶于酒精、水或其他溶液,从溶液中取出的非晶硅薄膜表面上会形成一层均匀的液膜。经甩干、自然风干、或在100℃烘箱中烘干,或置于盐可以快速结晶或分解为氧化物的温度加热后,再在400℃-600℃温度下退火;在加温退火过程中先形成晶化诱导点,以诱导点为中心辐射横向诱导晶化成晶粒尺寸在10-200微米量级的多晶硅。通过控制镍浓度、甩干速度、升温过程,可控制晶粒的大小。本发明可用于制备低温多晶硅薄膜晶体管、半导体集成电路或MEMs中的多晶硅栅等技术领域。

著录项

  • 公开/公告号CN100446180C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2008-12-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南开大学;

    申请/专利号CN200510015748.X

  • 发明设计人 吴春亚;孟志国;熊绍珍;赵淑云;

    申请日2005-10-28

  • 分类号H01L21/20(20060101);

  • 代理机构12002 天津佳盟知识产权代理有限公司;

  • 代理人廖晓荣

  • 地址 300071 天津市卫津路94号南开大学信息技术科学学院

  • 入库时间 2022-08-23 09:01:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-02-05

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/20 授权公告日:20081224 终止日期:20121028 申请日:20051028

    专利权的终止

  • 2008-12-24

    授权

    授权

  • 2006-08-23

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-06-28

    公开

    公开

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