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一种二维MXene材料的处理方法、产品及一种气敏传感器

摘要

本发明公开了一种二维MXene材料的处理方法、产品及一种气敏传感器,所述处理方法包括如下步骤:将以含氟化合物的溶剂为刻蚀溶剂,采用液相刻蚀法得到的二维MXene材料置于有机溶剂中,超声处理,之后进行干燥;对干燥后的MXene材料进行微波氧等离子体处理,得到所述二维MXene材料。通过对二维MXene材料进行微波氧等离子体处理,一方面有效提高了材料的比表面积;另一方面使得材料具有更多的氧官能团,为材料在进行气敏性能测试时提供更多的氧活性位点,从而提高气敏性能。本发明所得的MXene气敏材料具有高的选择性及稳定性,在25℃下,对100ppm的乙醇气体响应值可达到22.47%。

著录项

  • 公开/公告号CN111521649B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 昆明理工大学;

    申请/专利号CN202010386489.6

  • 发明设计人 杨黎;侯明;郭胜惠;高冀芸;胡途;

    申请日2020-05-09

  • 分类号G01N27/12(20060101);C01B32/921(20170101);C01B32/914(20170101);C01B21/06(20060101);

  • 代理机构11562 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人张雪

  • 地址 650000 云南省昆明市五华区学府路253号昆明理工大学基础楼

  • 入库时间 2022-08-23 12:08:18

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