首页> 中国专利> 场效应晶体管以及包括该场效应晶体管的半导体器件

场效应晶体管以及包括该场效应晶体管的半导体器件

摘要

本发明公开了场效应晶体管以及包括该场效应晶体管的半导体器件。该半导体器件可以包括:沟道层,设置在基板上并且包括由第一材料制成的二维原子层;和源/漏层,设置在基板上并且包括第二材料。第一材料可以是磷的同素异形体之一,第二材料可以是碳的同素异形体之一,沟道层和源/漏层可以通过在第一和第二材料之间的共价键彼此连接。

著录项

  • 公开/公告号CN107017285B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星电子株式会社;

    申请/专利号CN201611101627.1

  • 发明设计人 前田茂伸;徐承汉;成汝铉;

    申请日2016-12-02

  • 分类号H01L29/16(20060101);H01L29/24(20060101);H01L29/78(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人弋桂芬

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2022-08-23 12:05:40

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号