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有源层材料、有源层材料的制备方法和晶体管

摘要

本申请提供一种有源层材料、有源层的制备方法及晶体管,所述有源层材料结构式为因所述有源层材料中络合作用,使得有源层材料具有较好的成膜性能及规整的分子排列方式,将由有源层材料制备的有源层应用于晶体管中,进而制得的有源层不易聚集,且膜层厚度均一。

著录项

  • 公开/公告号CN111574539B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TCL华星光电技术有限公司;

    申请/专利号CN202010405444.9

  • 发明设计人 崔巍;

    申请日2020-05-14

  • 分类号C07D519/00(20060101);C08G61/12(20060101);H01L51/05(20060101);H01L51/30(20060101);

  • 代理机构44570 深圳紫藤知识产权代理有限公司;

  • 代理人唐秀萍

  • 地址 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号

  • 入库时间 2022-08-23 12:04:34

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