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一种基于等离子气相沉积的金刚石薄膜及其制备方法

摘要

本发明公开了一种基于等离子气相沉积的金刚石薄膜及其制备方法。金刚石薄膜的制备方法包括以下步骤;1、取以下各重量份原料;纳米金刚石微粉75‑80份、丙烯酸甲酯12‑15份、分散剂12‑15份、硬脂酸钠1‑3份经过分步处理,得到纳米金刚石混合液;2、采用化学镀,制得镍‑氮化硅基底,再对镍‑氮化硅基底进行海藻酸钠改性;3、上述处理得到的基底置于纳米金刚石混合液中,超声震荡,吸附、烘干;4、将上述得到的基底,置于微波等离子沉积设备中,进行氢化处理,最终得到金刚石薄膜。本方法制备的金刚石薄膜与基底的附着力强,不易脱落;金刚石薄膜的韧性和耐摩擦性能较好。

著录项

  • 公开/公告号CN112553590B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海征世科技股份有限公司;

    申请/专利号CN202011403657.4

  • 申请日2020-12-02

  • 分类号C23C16/27(20060101);C23C16/02(20060101);C23C16/511(20060101);C23C18/18(20060101);C23C18/36(20060101);B22F1/02(20060101);

  • 代理机构31312 上海邦德专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人王文娟

  • 地址 201799 上海市青浦区华浦路500号2幢西侧

  • 入库时间 2022-08-23 12:04:24

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