一种双深度浅沟道隔离槽及其制备方法

摘要

本发明提供一种双深度浅沟道隔离槽及其制备方法，双深度浅沟道隔离槽的制备方法包括：提供一衬底，衬底上依次形成有硬掩模层和图形化的第一光刻胶层；以图形化的第一光刻胶层为掩模，刻蚀形成第一开口和第二开口，再去除第一光刻胶层；在硬掩模层上形成图形化的第二光刻胶层；以图形化的第二光刻胶层和硬掩模层为掩模，刻蚀形成第二隔离槽的第一部分，再去除所述第二光刻胶层；以硬掩模层为掩模，刻蚀形成第二隔离槽的第二部分和第一隔离槽，使得感光区的第一隔离槽和逻辑区的第二隔离槽同时形成，提高了感光器件的电性性能，还提高了STI电性隔离的性能，同时，降低了工艺难度，扩大了工艺窗口。