公开/公告号CN106504987B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-06-08
原文格式PDF
申请/专利权人 东友精细化工有限公司;
申请/专利号CN201610764965.7
申请日2016-08-30
分类号H01L21/3213(20060101);H01L27/12(20060101);
代理机构11410 北京市中伦律师事务所;
代理人石宝忠
地址 韩国全罗北道
入库时间 2022-08-23 11:56:20
机译: 用于钼基金属层或铝基金属层的蚀刻溶液组合物和用于使用该液晶显示器的阵列基板的制造方法
机译: 用于含银层的蚀刻溶液组合物和用于使用相同的显示装置的阵列基板的制造方法
机译: 用于含银层的蚀刻溶液组合物和用于使用相同的显示装置的阵列基板的制造方法