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Etching solution composition for molybdenum-based metal layer or aluminum-based metal layer and manufacturing method of an array substrate for Liquid crystal display using the same

机译:用于钼基金属层或铝基金属层的蚀刻溶液组合物和用于使用该液晶显示器的阵列基板的制造方法

摘要

The present invention relates to a molybdenum-based metal film or aluminum-based metal film etchant composition and a method of manufacturing an array substrate for a liquid crystal display using the same, and more specifically, a molybdenum-based metal film containing sodium persulfate, nitric acid, acetic acid, additives and water Or it relates to an aluminum-based metal film etchant composition and a method of manufacturing an array substrate for a liquid crystal display using the same.
机译:本发明涉及基于钼的金属膜或铝基金属膜蚀刻剂组合物及其使用相同的液晶显示器的阵列基材的方法,更具体地,含有含有钠过硫酸钠的钼基金属膜,硝酸,乙酸,添加剂和水或其涉及一种基于铝基金属膜蚀刻剂组合物和用于使用该铝制的金属膜蚀刻剂组合物和用于制造用于液晶显示器的阵列基板的方法。

著录项

  • 公开/公告号KR102254562B1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-05-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR1020150019959

  • 发明设计人 장상훈;김태완;이석준;

    申请日2015-02-10

  • 分类号C09K13/06;C23F1/20;C23F1/30;H01L21/306;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-24 18:58:42

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