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一种减小WPE效应的标准单元库版图设计方法

摘要

本发明提供了一种减小WPE效应的标准单元库版图设计方案,应用于半导体制造领域,包括以下步骤,确定标准单元版图的基本设计参数;根据所述标准单元原理图和所述基本设计参数,形成标准单元的基本版图;根据所述标准单元的基本版图,计算出单个所述标准单元的PMOS AA有源区至N阱的最大距离(SC_sum);根据所述最大距离(SC_sum),计算出PMOS的源/漏端至N阱的最佳距离值;根据所述最佳距离值,对所述基本版图进行调整。有益效果:本发明在实现了单个标准单元版图和面积固定的同时,减小了标准单元所受WPE效应的影响,增高阈值电压,电路速度提升5%以上。

著录项

  • 公开/公告号CN107798197B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-05-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;

    申请/专利号CN201711050885.6

  • 发明设计人 阳媛;高唯欢;胡晓明;

    申请日2017-10-31

  • 分类号G06F30/392(20200101);G06F30/394(20200101);G06F30/398(20200101);

  • 代理机构31272 上海申新律师事务所;

  • 代理人俞涤炯

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号

  • 入库时间 2022-08-23 11:49:46

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